游離磨料(Free Abrasive)的加工方式可以得到較小的表面粗糙度與較無質變層,有研磨(Lapping)與拋光(Polishing)兩道製程,達到減薄、細致光亮表面層。
UTSD-SP01研磨懸浮分散劑應用於藍寶石基板與LED晶片背部減薄之游離研磨漿的配製,將UTSD-SP01溶於水中,然後如磨料碳化矽(SiC)、碳化硼(B4C)、立方氮化硼(CBN)、鑽石微粉、氧化鋁(Al2O3)、FO等粉體緩緩加入,攪拌均勻即可上線使用。其他應用產業如矽晶圓、光學玻璃、陶瓷基板或金屬基板的游離研磨拋光應用。
UTSD-SP01研磨懸浮分散劑特性: