游离磨料(Free Abrasive)的加工方式可以得到较小的表面粗糙度与较无质变层,有研磨(Lapping)与抛光(Polishing)两道制程,达到减薄、细致光亮表面层。
UTSD-SP01研磨悬浮分散剂应用于蓝宝石基板与LED晶片背部减薄之游离研磨浆的配制,将UTSD-SP01溶于水中,然后如磨料碳化矽(SiC)、碳化硼(B4C)、立方氮化硼(CBN)、钻石微粉、氧化铝(Al2O3)、FO等粉体缓缓加入,搅拌均匀即可上线使用。其他应用产业如矽晶圆、光学玻璃、陶瓷基板或金属基板的游离研磨抛光应用。
UTSD-SP01研磨悬浮分散剂特性: